韓國媒體 TheElec 報導,與三星 3 奈米相較,2025 年量產 2 奈米會多 30% 極紫外光(EUV)曝光層。
三星估 2 奈米比 3 奈米多 30% EUV 曝光層 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 07 月 21 日 9:30 | 分類 Samsung , 半導體 , 晶圓 |
加工費低廉,又有兩家中國銅冶煉廠減產 |
| 作者 Daisy Chuang|發布日期 2024 年 07 月 17 日 14:00 | 分類 材料、設備 , 零組件 | edit |
最近由於銅礦場供應與冶煉產能間不平衡,持續壓低銅礦加工利潤,中國又有兩家冶煉廠,正在制定明年減產計畫。
ASML 第二季營收略優於預期,對全年展望維持不變 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 07 月 17 日 14:00 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶片 | edit |
全球晶片微影技術廠商艾司摩爾 (ASML) 發布 2024 年第二季財報,銷售淨額 (net sales) 為 62 億歐元,淨收入 (net income) 為 16 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 51.5%。另外。第二季訂單金額為 56 億歐元,其中 25 億歐元為 EUV 訂單。ASML 同時公布 2024 年第三季財測,預估銷售淨額約 67 至 73 億歐元之間,毛利率預估約 50% 至 51%。
高頻+低功耗:新開關技術或徹底改變 6G 通訊 |
| 作者 TechNews 編輯台|發布日期 2024 年 07 月 15 日 17:45 | 分類 材料、設備 , 網路 , 網通設備 | edit |
