路透社報導,處理器大廠英特爾 (Intel) 日前產業會議透露,開始用兩台艾司摩爾(ASML)High-NA Twinscan EXE:5000 EUV 微影曝光機。英特爾工程師 Steve Carson 表示,奧勒岡州 Hillsborough 附近 D1 工廠開始用 ASML 兩台 High-NA EUV,至今處理達 3 萬片晶圓。
英特爾領先業界啟用 High-NA EUV,至今處理超過 3 萬片晶圓 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 02 月 27 日 10:50 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



