日前才傳出晶圓代工龍頭台積電可能在日本與科技大廠 SONY 共同建立晶圓廠,以確保晶片供應不會產生問題後,《日本經濟新聞》最新報導指出,台積電正考慮向日本政府提出獨資興建經營晶圓廠的計劃。若付諸實行,將是台積電於日本建立的首座晶圓廠。
Category Archives: 半導體
Adobe 支援蘋果 M1 晶片,iPad 版 Photoshop 開放支援更新 |
| 作者 邱 倢芯|發布日期 2021 年 06 月 10 日 17:25 | 分類 晶片 , 會員專區 , 軟體、系統 |
Adobe 於 6 月發表 Creative Cloud 一系列更新,除了為 iPad 版 Photoshop 及 Adobe Camera Raw 帶來自訂工具外,亦將多功能行動相片編輯應用程式 Photoshop Express 導入相片修飾功能,滿足用戶編輯社交媒體相片的需求。此外, Premiere Pro Beta 版、Illustrator 及 InDesign 現在也支援蘋果(Apple)M1 裝置,並帶來多項效能提升。

ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。



