Category Archives: 材料、設備

俄國計劃自研 EUV 設備,比 ASML 系統更便宜、容易製造

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 17:54 | 分類 半導體 , 材料、設備

綜合外媒 CNews、Tom′s Hardware 報導,俄羅斯已公布自主開發曝光機的路線圖,目標是打造比 ASML 系統更經濟且更複雜的設備。這些曝光機將採用波長為 11.2 奈米的雷射光源,而非 ASML 使用的標準 13.5 奈米波長。因此,新技術無法與現有 EUV 基礎設施相容,需要俄羅斯自行開發配套的曝光生態系統,可能需要數年甚至十年以上時間。 繼續閱讀..

打入半導體 2 奈米先進微影製程!新應材預計明年 1 月中掛牌上櫃

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 16:12 | 分類 半導體 , 尖端科技 , 材料

特用化學材料廠新應材 12 月 23 日將舉辦上櫃前業績發表會,並將以競價拍賣搭配公開申購方式配售初次上櫃前現金增資股票,預計 2025 年 1 月中旬掛牌上櫃,董事長詹文雄表示,隨著 2 奈米將在 2025 下半年量產,新應材的「洗邊劑」和「底部抗反射層」已打入 2 奈米,成為最大營運動能。

繼續閱讀..

Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機,拚 2027 年量產

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線(EUV)曝光設備的公司,目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義(Atsuyoshi Koike)18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示,將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..

避免美日材料大廠卡脖子,中國推動國產光阻供應鏈

作者 |發布日期 2024 年 12 月 18 日 18:04 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

隨著中國半導體產業邁向自給自足,不僅要開發精密的晶片製造工具,還要開發高純度光阻劑,這對製造先進晶片相當重要。根據研調機構,中國今年在光阻發展有顯著進步,主要受政府支持,以及當地晶片製造商需求增加。 繼續閱讀..

博通市值破 1 兆美元接手 AI 下一波!「ASIC 2.0」六大領域概念股崛起

作者 |發布日期 2024 年 12 月 17 日 14:55 | 分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , PCB

博通(Broadcom)上週五市值突破 1 兆美元,並創單日漲幅 24% 的歷史紀錄後,週一股價再漲 11%,被視為接班輝達(NVIDIA)AI 下半場的選手,外資更發布《AI ASIC 2.0:潛在贏家》,點名六大領域贏家,帶動相關概念股崛起。

繼續閱讀..

如何出口限令爭取空間、維持中國銷售,成美晶片設備商難題

作者 |發布日期 2024 年 12 月 14 日 8:00 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備

根據《紐約時報》報導,拜登政府考慮停止向三間中國公司出售半導體設備,因為與華為有關聯。但消息一出,美國半導體設備大廠應用材料(Applied Materials)、科磊(KLA)、科林研發(Lam Research)紛紛跳出來喊話,表示三間中國公司是主要營收來源。 繼續閱讀..

imec 最新超導數位核心組件,展現可擴充性與 CMOS 相容性

作者 |發布日期 2024 年 12 月 12 日 16:20 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶片

在 2024 年 IEEE 國際電子會議(IEDM)上,比利時微電子研究中心(imec)展示三款超導數位電路的關鍵組件,包括基於氮化鈮鈦(NbTiN)的內連導線、約瑟夫森接面和 MIM 電容。這些元件不僅性能超越最頂尖的超導體技術,還能為推動人工智慧(AI)和高效能運算革命性發展所設計的超導數位系統滿足目標規格。此次展出的技術,不僅具備可擴充性,也與 CMOS 製造技術相容,消弭了實驗室規模的可行性研究走向業界製造的差距。

繼續閱讀..

具俄羅斯背景 ASML 前員工遭控竊取機密,遭荷蘭拘留並處 20 年入境禁令

作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:30 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據荷蘭媒體 NOS 的報導,一名具有俄羅斯背景的 ASML 前員工,因為涉嫌竊取 ASML 重要晶片文件檔而被荷蘭政府拘留。同時,荷蘭庇護和移民局近日已對該 ASML 前員工實施了 20 年的入境禁令。報導表示,過去荷蘭很少實施此類禁令,通常只針對涉及國家安全的案件才會做出此等措施。

繼續閱讀..