Tag Archives: TWINSCAN EXE:5000

ASML 推 High-NA EUV 樂高模型，851 個零件復刻全球最貴曝光機

作者林妤柔|發布日期 2024 年 12 月 02 日 16:51 |

分類半導體 , 材料、設備 , 科技趣聞

全球半導體設備龍頭 ASML 宣布將最先進曝光機「樂高化」，推出 High-NA EUV 曝光機 Twinscan EXE:5000 樂高模型，售價 227.95 美元（約新台幣 7,400 元），雖然價格相當高，但已比實機造價 3.8 億美元便宜多了。繼續閱讀..

High-NA EUV 設備「初光」里程碑！英特爾、ASML 稱主要元件已啟動

作者林妤柔|發布日期 2024 年 02 月 29 日 10:16 |

分類半導體 , 晶圓 , 會員專區

綜合外媒報導，ASML 與英特爾本週宣布達成重要里程碑，其最先進 High-NA EUV 曝光機 Twinscan EXE：5000 的主要元件已經啟動，即首度打開光源並使光線到達晶圓上的抗蝕層，並開始運作，表示光源和反射鏡已正確對準。這是啟動過程中的關鍵一步，儘管尚未達到峰值性能。繼續閱讀..

英特爾搶先台積電下訂業界首部新世代 EUV，強化與 ASML 技術合作

作者 Atkinson|發布日期 2022 年 01 月 19 日 22:30 |

分類 IC 設計 , 晶片 , 會員專區

為推動尖端半導體微影技術發展，微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 與處理器龍頭英特爾於台北時間 19 日晚間宣布長遠合作的最新發展，為雙方長遠高數值孔徑合作案的框架內容，英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單。這款具備 High-NA 極紫外光（EUV）大量生產系統，每小時有 200 片以上晶圓產能。