Tag Archives: EUV

名副其實「工具人」！台積電提升 ASML EUV 效率，六年晶圓產量增加 30 倍
作者 |發布日期 2025 年 09 月 19 日 7:40 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

台積電（TSMC）提升 ASML 極紫外光（EUV）曝光機效率取得重大進展，2019 年以來，台積電以系統級最佳化及自研薄膜材料，使 EUV 生產晶圓產量增加 30 倍，同時電力消耗減少 24%。身為全球最大 EUV 用戶，台積電有約 200 台機台，2024~2025 年再新增 60 多台，支撐先進製程擴產需要。 繼續閱讀..

你不知道的新創企業新凱來與宇量昇，在中國半導體自主扮演重要角色
作者 |發布日期 2025 年 09 月 17 日 14:30 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

美國對中國半導體技術實施嚴格出口管制的背景下，中國正以前所未有的決心，試圖突破技術封鎖，實現晶片製造的全面自主化。這場史詩般的科技競賽中，華為扮演著核心推動者的角色，而像新凱來（SiCarrier）與宇量昇科技這樣的本土新創企業，則成為其攻克先進晶片製造技術的關鍵武器。這些企業不僅獲得了政府的鼎力支持，更在華為的深度參與下，劍指全球半導體巨頭，試圖改寫全球晶片產業的格局。

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從 EUV 心臟到創新基地，看蔡司半導體如何在台灣養成國際級工程師
作者 |發布日期 2025 年 08 月 18 日 9:00 |
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分類 人力資源 , 半導體

你可能對艾司摩爾（ASML）公司那台要價新台幣數十億元、甚至上百億元的 EUV（極紫外光）微影設備不陌生。但你可能不知道，這台備受矚目的機器中有一項關鍵技術——「光學反射鏡」，而提供這項技術的是蔡司半導體（ZEISS SMT），為擁有 179 年歷史的德國蔡司集團旗下半導體事業部。 繼續閱讀..

應對美國晶片禁令，中國能打造自己的 ASML 嗎？
作者 |發布日期 2025 年 07 月 16 日 15:15 |
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分類 AI 人工智慧 , 中國觀察 , 半導體

美國政府對中國實施晶片出口管制，禁止 ASML 向中國出口先進的 EUV 與 DUV 設備，甚至連 DUV 設備的維修服務也遭限制，直接切斷中國取得與維護微影技術的關鍵途徑。受此影響，中國在 5 奈米以下的先進製程上難以與國際同步，微影技術成為半導體發展的最大瓶頸。 繼續閱讀..

英特爾看淡曝光機對半導體重要性，外資下修 ASML 目標價
作者 |發布日期 2025 年 07 月 03 日 15:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

2023 年末，曝光機大廠 ASML 向英特爾運交機首套 High-NA EUV 曝光機，型號為 TWINSCAN EXE:5000。業界普遍認為，High-NA EUV 將對先進晶片開發和下代處理器生產發揮關鍵作用。不過最近又有變化，各晶圓代工廠都在減少依賴 High-NA EUV，延後導入時間。特別是英特爾董事發言，讓市場對 High-NA EUV 前景產生更多疑問。

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挑戰 6 奈米，聯電卡位先進製程市場
作者 |發布日期 2025 年 07 月 01 日 17:45 |
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分類 半導體 , 晶片

全球第四大晶圓代工大廠聯電（UMC）正積極評估進軍 6 奈米製程，藉此拓展高階晶片市場，尋求新的成長動能。消息人士指出，聯電正探索與英特爾進一步擴大合作的可能性，計劃從現有的 12 奈米合作基礎，延伸至 6 奈米，未來雙方也不排除在亞利桑那州展開更深層次的建廠合作。 繼續閱讀..