荷蘭半導體設備巨頭 ASML 獲分析師大幅調升目標價，看好 DRAM 製造商對 EUV 設備的需求將強勁成長；ASML 股價 2 日應聲大漲。 繼續閱讀..
ASML 獲分析師看好、股價飆 DRAM 客戶需求看增 |
作者
MoneyDJ|發布日期
2026 年 01 月 05 日 8:50 |
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Tag Archives: DUV
為什麼有了極致先進 EUV，半導體製程仍對 DUV 不可或缺？ |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 27 日 11:00 |
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全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)日前在一場公開活動中，公布了其新一代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV，HNA）微影技術的最新進展與市場採用狀況，目的在消除市場對其技術成功性的疑慮。而且，ASML 也宣布，已在總部設立 HNA 專門組織並投入運作。
傳出曾提議為美國政府監控中國客戶，ASML 否認 |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 24 日 8:00 |
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全球半導體製造設備巨擘，荷蘭的曝光機設備大廠 ASML 近日被一本新書揭露曾做出驚人提議，就是在違反美國和荷蘭達成的對中國曝光機銷售限制後，ASML 曾經向美國政府表示，願意做為「華盛頓在中國的耳目」，刺探其中國客戶的內部發展情報。
半導體製程 EUV 王朝難撼動，Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 04 日 12:30 |
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在半導體製造的最前線，曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光（DUV）與極紫外光（EUV）兔光機，建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而，日本光學大廠佳能（Canon）正嘗試以另一條路徑突圍，那就是奈米壓印 （Nanoimprint Lithography，NIL）。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術，正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。
俄羅斯公布 EUV 光刻工具藍圖，取代 DUV 技術計畫遭質疑 |
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作者
TechNews 編輯台|發布日期
2025 年 09 月 30 日 12:30 |
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俄羅斯科學院近日公布了 2026 年至 2037 年的極紫外光（EUV）光刻工具發展藍圖，計劃取代傳統深紫外光（DUV）光刻技術。
