Tag Archives: ASML

晶片供應鏈掀移轉重組潮，日經：榮化將隨台積電於亞利桑那州設廠
作者 |發布日期 2021 年 02 月 09 日 16:55 |
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分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

美國落實晶片製造在地化後，台積電也加速亞利桑那州新廠建設，同時晶圓製造的相關供應鏈也開始出現板塊移動效應。《日經亞洲評論》報導，全球最大半導體化學品供應商之一李長榮化工（LCY Chemical，榮化）已決定前往亞利桑那州設置新廠，也是有史以來最大海外投資，報導認為，李長榮這項行動突顯半導體供應鏈正進行的結構性轉變。 繼續閱讀..

英特爾 EUV 設備不夠，研調：台積電明年獲 7 奈米 CPU 訂單
作者 |發布日期 2021 年 02 月 03 日 14:35 |
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分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

市調機構 Counterpoint Research 警告，即便晶圓代工廠 2021 年將積極擴大資本支出，晶片供給吃緊問題，最快恐怕要等到 2021 下半年才有解。另外，由於英特爾（Intel Corp.）內部取得的極紫外光（EUV）微影設備不夠用，預測台積電最快有望 2022 年底取得英特爾 7 奈米 CPU 訂單。 繼續閱讀..

2020 年半導體市場表現亮眼，艾司摩爾營收獲利均創新高
作者 |發布日期 2021 年 01 月 20 日 18:00 |
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分類 會員專區 , 材料、設備 , 財報

半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）台北時間 20 日公布 2020 年第 4 季及 2020 年度全年財報。營收、獲利都創新高，整體表現優於公司先前的財測與市場預期的情況下，ASML 於 20 日在美股的股價一度大漲超過 4%，股價一度站上 551.15 美元。

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台積電今年再買逾 15 台 EUV，供應鏈沾光
作者 |發布日期 2021 年 01 月 20 日 12:30 |
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分類 材料、設備 , 財經 , 零組件

進入後摩爾時代，極紫外光（EUV）微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術，目前包括台積電、三星（Samsung）、英特爾（Intel）等大廠也積極導入 EUV。據供應鏈消息，2021 年 ASML（艾司摩爾）EUV 設備出貨量從 40 台起跳，台積電包下至少 15 台、上看 20 台，穩居最大客戶；法人看好 ASML 供應鏈的帆宣、家登、公準等有望持續受惠。 繼續閱讀..

三星樂了！5 個月來市值首次超越台積電
作者 |發布日期 2020 年 12 月 29 日 11:10 |
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分類 GPU , Samsung , 國際貿易

之前媒體為股價抱屈，導致市值落後台積電的南韓三星，12 月 24 日收盤時市值達約 4,751 億美元，再度超越台積電，這也是 5 個月以來三星市值首次超過台積電。據南韓相關市場專家指出，由於 5G 和 AI 市場持續成長，2021 年晶圓代工業前景樂觀，也將持續拉抬三星市值。

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不受摩爾定律限制，ASML 開始設計 1 奈米製程曝光設備
作者 |發布日期 2020 年 12 月 01 日 6:00 |
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分類 IC 設計 , 國際觀察 , 晶圓

根據外媒報導，日前在日本東京舉行了 ITF（IMEC Technology Forum,. ITF）論壇。在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾（ASML）合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 奈米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節。根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 奈米、2 奈米、1.5 奈米、1 奈米，甚至是小於 1 奈米的製程都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 奈米製程的曝光設備了。

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Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀 ASML 超越？
作者 |發布日期 2020 年 10 月 22 日 8:00 |
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分類 材料、設備 , 零組件

當今世界光刻機三大製造商是：日本 Nikon、Canon 和荷蘭 ASML，日本 Nikon 和 Canon 都是知名百年老牌照相機製造商，ASML 則是 1984 才成立的合資公司，但如今 ASML 光刻機（曝光機）享譽全球，聲勢更超越 Nikon。ASML 後發制人卻能邁向成功，這是怎麼做到的？《科技新報》取得「若葉 ヒロユキ」授權轉載，以下為他的見解。

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