imec 提高氧濃度最佳化 EUV 效率，產能有望提升 |
作者
蘇 子芸|發布日期
2026 年 02 月 28 日 17:21 |
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Tag Archives: 光罩
ASML 擬升級 EUV 光源至 1,000W，晶圓產能有望提升 50% |
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作者
蘇 子芸|發布日期
2026 年 02 月 24 日 9:45 |
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綜合外電報導，荷蘭半導體設備大廠 ASML 傳出在極紫外光（EUV）技術上取得關鍵進展，規劃將光源功率由 600W 提升至 1,000W。若新方案順利導入，晶圓產能有望提升約 50%，且無需額外擴建無塵室或新增整套機台。 繼續閱讀..
半導體製程 EUV 王朝難撼動，Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
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作者
Atkinson|發布日期
2025 年 11 月 04 日 12:30 |
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在半導體製造的最前線，曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光（DUV）與極紫外光（EUV）兔光機，建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而，日本光學大廠佳能（Canon）正嘗試以另一條路徑突圍，那就是奈米壓印 （Nanoimprint Lithography，NIL）。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術，正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。
