新 EUV 時代來臨,imec 以 High-NA EUV 展示邏輯與 DRAM 架構 作者 Atkinson | 發布日期 2024 年 08 月 09 日 9:20 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit Loading... Now Translating... 比利時微電子研究中心(imec)在荷蘭 Eindhoven 與艾司摩爾(ASML)合作的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室,利用數值孔徑 0.55 極紫外光曝光機,發表曝光後圖形化元件結構。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , dram , High-NA EUV , imec , 半導體設備