全球半導體技術研究重鎮的比利時微電子研究中心(imec),日前國際光學工程學會(SPIE)先進曝光微影成形技術會議,展示 High-NA(高數值孔徑)曝光技術的大進展,含顯影與蝕刻製程的開發、新興光阻劑與塗料測試、量測與光罩技術最佳化等。因 imec 與台積電、英特爾等國際大廠密切合作,業界預期先進製程 2025 年後進入埃米(angstorm)時代,High-NA 曝光技術將是關鍵。
Category Archives: 晶圓
費半為何慘崩?分析師:憂 2018 年晶片氾濫重演 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2022 年 04 月 27 日 9:50 | 分類 晶圓 , 晶片 |
2021 年半導體銷售突破半兆美元、締造前所未見的佳績,2022 年的現有晶片供給更幾乎全數售罄,可是費城半導體指數沒有狂喜慶賀,今年來反倒一路下殺,主要是市場憂慮 2018 年供給氾濫的慘況將再次上演。 繼續閱讀..
中國國產 8 吋晶圓產能與需求開始釋放 |
| 作者 TrendForce 集邦科技|發布日期 2022 年 04 月 26 日 7:30 | 分類 中國觀察 , 技術分析 , 晶圓 |
目前中國晶圓製造廠商有 17 家正在擴產,產能已逐步開始釋放,但擴產行列中主要以 12 吋晶圓產能為主,8 吋晶圓產能只有中芯國際(天津)、海辰半導體、紹興中芯、寧波中芯、士蘭微(杭州)與比亞迪 6 家廠商在擴產,從產能來看,新建產能將在 2022 年內陸續得到釋放。 繼續閱讀..
應材推出運用 EUV 延展 2D 微縮與 3D 閘極全環電晶體技術 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2022 年 04 月 25 日 14:15 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片 |
美商應材公司今日表示,策略是成為「PPACt 推動公司」 (PPACt enablement company)。因此,新發表七項創新技術,其目的就是要協助客戶運用 EUV 以持續進行 2D 微縮。新一代 GAA 電晶體的製造方式與當前的 FinFET 電晶體有所不同,以及應材備妥為 GAA 的製造提供業界最完整的產品組合,包括在磊晶、原子層沉積、選擇性去除材料的新步驟及兩種新整合性材料解決方案 (Integrated Materials SolutionsTM) 的情況下,藉此產生合適的 GAA 閘極氧化層與金屬閘極。
各國晶片製造在地化趨勢抬頭,2022 年台灣掌握全球晶圓代工 48% 產能 |
| 作者 TechNews|發布日期 2022 年 04 月 25 日 13:45 | 分類 晶圓 , 晶片 |
據 TrendForce 表示,
英特爾 2025 年製程超越台積電?外媒:英特爾失信多、存疑 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2022 年 04 月 25 日 13:20 | 分類 晶圓 , 晶片 |
台積電表示,2 奈米製程將在 2025 年下半或 2025 年底量產。競爭對手英特爾(Intel)則放話,2024 年就能量產 2 奈米,雙雄競爭之勢是否出現變化?外媒認為,有待時間證明。 繼續閱讀..




