Category Archives: 晶圓

台積電啟動 EUV 動態節能計畫,EUV 最大功耗降低 44%

作者 |發布日期 2025 年 10 月 02 日 10:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

做為全球最大的晶圓代工廠,台積電的營運消耗了龐大的電力,約占台灣總用電量的 9%。 為了有效降低營運成本,並實現其永續發展目標,台積電於 2025 年 9 月啟動了一項名為「EUV 動態節能計畫」(EUV Dynamic Energy Saving Program),該計畫目的在於大幅削減以高耗電量著稱的極紫外光(EUV)曝光機的功耗。根據最新公布的成果,這項節能措施已顯示出顯著成效。

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日本 Rapidus 宣布 2 奈米獲科技大廠支持,加劇與台積電、三星競爭

作者 |發布日期 2025 年 10 月 02 日 8:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

日本新創晶圓代工廠 Rapidus 在 2 奈米競賽加速腳步,宣布獲美國主要客戶支持,透露有更多廠商排隊等候合作。Rapidus 致力於在北海道千歲市大規模量產下一代半導體,目標是在全球最先進製程領域與台積電、三星和英特爾等產業領先者展開競爭。

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從競爭轉為合作?傳英特爾接觸 AMD 推銷自家晶圓代工,拉抬股價

作者 |發布日期 2025 年 10 月 02 日 7:50 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

CNBC 引用美國科技新聞網站 Semafor 報導,全球半導體產業醞釀可能改寫產業格局的重大合作。晶片大廠英特爾(Intel)正與 PC 和伺服器 x86 晶片競爭對手超微(AMD)洽談,英特爾代工生產 AMD 晶片一事。消息一出,市場隨即熱烈回應,英特爾股價應聲上漲 7%,AMD 股價也出現超過 1% 漲幅。

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成熟製程市場壓力浮現,聯電要求供應商 2026 年全年度至少降價 15%

作者 |發布日期 2025 年 10 月 02 日 7:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

晶圓代工大廠聯電傳出向供應商發出通知函,要求供應鏈在一個月內提出具體且可執行的降價方案,降幅必須高於 15% 以上。此項大規模的成本最佳化將自 2026 年 1 月 1 日起正式生效,且調整方案須涵蓋 2026 年全年度。晶圓代工業界近年來首度由業者大規模要求供應鏈降價,震撼半導體產業。

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川普政府入股之後,英特爾重申對俄亥俄州大型晶圓廠興建計畫承諾

作者 |發布日期 2025 年 10 月 01 日 10:15 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 封裝測試

晶片大廠英特爾(Intel)日前發表聲明,重申對其代號「俄亥俄一號」,也就是在俄亥俄州大型晶圓廠計畫的長期承諾。先前,該價值 200 億美元的晶圓廠興建的啟動時程,因公司的財務吃緊而被延期到至少 2030 年,但受到共和黨籍美國參議員 Bernie Moreno 的強力施壓下,使得英特爾進一步發表重申支持該計畫。

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晶片製造五五分,專家:矽盾定義轉為台美共同韌性

作者 |發布日期 2025 年 09 月 30 日 8:15 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

美國商務部長盧特尼克提出台美晶片製造「五五分」構想,半導體專家 29 日分析,這意味美國將「矽盾」定義,從台灣獨有轉變為美台共同韌性,此構想可能迫使台積電加速在美擴產,其他供應鏈也需承壓,台灣半導體產業如何確保領先以及資源分配,將是最大挑戰。 繼續閱讀..

台積電 10/16 法說會法人聚焦 2 奈米,其他先進製程也是焦點

作者 |發布日期 2025 年 09 月 29 日 15:00 | 分類 AI 人工智慧 , 公司治理 , 半導體

就在台積電 2 奈米製程即將量產,市場傳出已經手握 15 家客戶的情況下,競爭對手三星也在先前客戶特斯拉下單 2 奈米之後,對生產技術的良率信心大增,以至於準備發動價格戰,爭取潛在客戶支持的同時,市場聚焦在台積電的其他先進製程上,包括 3 奈米、5 奈米、以及 7 奈米的訂單情況。因為市場預計,這些已經量產的先進製程將會是接下來持續維持營收成長的重點。

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台積電熊本第二晶圓廠無法興建解決,縣府動工交通改善計畫

作者 |發布日期 2025 年 09 月 29 日 11:15 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

日本媒體報導,為了緩解台積電日本熊本第一晶圓廠周邊日益嚴重的交通壅塞問題,熊本縣政府於日前在當地菊陽町原水的縣立技術短期大學校中,舉行了兩項關鍵基礎設施工程的動工儀式。這兩項由熊本縣做為事業主體的工程,目的在改善當地交通狀況並提高區域聯通性,目標於 2028 年度完成。

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imec 宣布單次曝光 High NA EUV 微影技術重大突破,推進 2 奈米以下製程發展

作者 |發布日期 2025 年 09 月 29 日 10:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

比利時微電子研究中心(imec)日前發布重大消息,宣布其在高數值孔徑極紫外曝光(High NA EUV)單次圖形化技術上取得新的突破性里程碑,代表著 High NA EUV 圖形化能力向 A10 及更先進邏輯節點邁進的強大實力,同時也強調了 imec 在曝光為影技術研發領域的領先地位。

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