Category Archives: 材料、設備

家登赴美設廠只是時間問題，2022 年以持續擴大產能為主
作者 |發布日期 2021 年 12 月 29 日 15:50 |
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分類 會員專區 , 材料、設備 , 財經

半導體設備商家登表示，隨著晶圓代工客戶全世界布局，設備廠方面也積極做好準備。雖然客戶美國 5 奈米廠以每個月 2 萬片產能來說，供應商家登現階段還不需要前進美國設廠，不過未來台積電美國布局預期加大，家登已不是「要不要去設廠，而是何時去設廠」議題。

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強化電動車 EMC 檢測能量，德凱「高頻吸波棉自動收納電波暗室」亮相
作者 |發布日期 2021 年 12 月 28 日 15:49 |
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分類 會員專區 , 材料、設備 , 汽車科技

全球檢驗認證機構德凱（DEKRA）宣布，為提升服務能量，建立全台第一間高頻吸波棉自動收納功能的電波暗室，跳脫過往傳統人工擺放模式，場地可像舞台機關一樣自動控制，只需 1 分 40 秒即可讓高頻吸波棉在場地中自動升降，不僅可縮短一個小時的場地配置時間，更能減少人為擺放的誤差，協助客戶節省時間成本並提升測試精準度。

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扶植中國廠？傳中國大調鋰鈷鎳價，迫韓 EV 電池廠漲價
作者 |發布日期 2021 年 12 月 28 日 12:30 |
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分類 Samsung , 中國觀察 , 國際貿易

中國一手把持電動車（EV）的電池金屬供給，據悉近來中企大幅提高了鋰、鈷、鎳的價格，迫使南韓三大電池廠 LG 新能源（LG Energy Solution）、SK On、Samsung SDI 漲價因應。南韓業界擔心，韓企可能會喪失價格競爭力，讓中國廠趁機出頭。 繼續閱讀..

化合物半導體發展成趨勢，汎銓搶攻兩岸市場成營收引擎
作者 |發布日期 2021 年 12 月 28 日 12:00 |
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分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

全球半導體產業持續投入更先進之製程開發、加上第三代半導體及異質整合技術發展，尤其許多國家針對半導體產業列為國家戰略性產業發展，紛紛加大力道扶植當地半導體產業聚落。半導體測試與分析廠商汎銓參與本屆半導體展，展示公司於兩岸布局材料分析 (MA+SA) 及故障分析 (FA+RA) 的技術服務領域。

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賀利氏新竹竹北成立創新實驗室，縮短客戶開發週期
作者 |發布日期 2021 年 12 月 28 日 11:45 |
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分類 封裝測試 , 晶片 , 會員專區

半導體與電子封裝材料解決方案商賀利氏 28 日宣布，將在新竹縣竹北市台元科技園區設立創新實驗室，為其全球第五座致力於開發電子產品的創新中心。其作為賀利氏及合作夥伴的應用實驗室，其占地 180 平方公尺且擁有最先進設備，預計於 2022 上半年正式啟用，將成為賀利氏電子和賀利氏新創事業──賀利氏數位列印電子應用團隊的聯合創新實驗室，提供客戶共同研發創新合作與更好的技術服務。

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因應尿素荒，日廠動起來增產、開拓新採購來源
作者 |發布日期 2021 年 12 月 28 日 8:30 |
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分類 交通運輸 , 國際貿易 , 材料、設備

因中國實施出口管制，也讓日本繼南韓之後也出現尿素荒，迫使日本政府日前表示，已要求日本廠商盡最大限度增產尿素。而據日媒指出，為了因應尿素短缺以及日本政府的要求，日本國內尿素廠商動起來增產，其中三井化學將尿素增產 15%，而尿素進口商也開拓新採購來源。

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元太宣示 2040 淨零碳排目標，展望明年首重擴產產能順利開出
作者 |發布日期 2021 年 12 月 23 日 16:15 |
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分類 光電科技 , 會員專區 , 材料、設備

電子紙大廠 E Ink 元太科技 23 日宣布，承諾要在 2040 年達成淨零碳排目標。為了協助減緩氣候衝擊，元太展開零碳排行動，制訂 3 大階段性目標，逐步在 2025 年達成 40% 再生能源使用，2030 年 100% 再生能源使用以落實 RE100 目標，到了 2040 年實踐淨零碳排承諾，協助推動環境永續發展。

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新能源車帶動，預估 2025 年動力電池對正極材料需求將突破 215 萬噸
作者 |發布日期 2021 年 12 月 23 日 14:30 |
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分類 材料、設備 , 汽車科技 , 電池

根據 TrendForce 表示，隨著新能源汽車產銷量的爆發，動力電池裝機量也出現高速增長，進而促使電池材料的需求水漲船高。其中，正極材料做為動力電池需求最大的一類原材料，其出貨量受益於新能源汽車的拉動而快速增長，預估 2021 年全球動力電池對正極材料的需求量將達 60 萬噸，至 2025 年有望突破 215 萬噸。 繼續閱讀..

下世代高數值孔徑 EUV 售價逾 80 億元，屆時再掀資本支出大戰
作者 |發布日期 2021 年 12 月 22 日 15:00 |
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分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備

半導體先進製程關鍵之一就是曝光設備，原因是一方面曝光設備佔所有先進製程製造設備成本 22% 左右，也佔製造工時 20% 左右。另一方面全球僅荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產先進極紫外光曝光設備 (EUV)，EUV 又是進入 10 奈米以下先進製程的必備關鍵。半導體製造商要跨入先進製程，向 ASML 採購 EUV 曝光設備就必不可少。

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