比利時微電子研究中心(imec)在荷蘭 Eindhoven 與艾司摩爾(ASML)合作的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室,利用數值孔徑 0.55 極紫外光曝光機,發表曝光後圖形化元件結構。
新 EUV 時代來臨,imec 以 High-NA EUV 展示邏輯與 DRAM 架構 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 08 月 09 日 9:20 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |
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