美光搶先支持 Canon 奈米半導體印刷，威脅 ASML 曝光市場

美商記憶體大廠美光 (Micron) 計畫首先支持日本佳能 (Canon) 的奈米半導體印刷技術，希望藉此進一步降低生產 DRAM 記憶體的成本。

外媒報導，美光日前舉辦演講，介紹奈米半導體印刷用於 DRAM 生產的細節，DRAM 製程和沉浸式曝光解析度，也就是 Chop 層數不斷增加，代表必須增加更多曝光步驟，以取出密集記憶體陣列周圍虛假結構（dummy structures）。

由於光學系統特性，DRAM 層圖案很難用光學曝光畫圖案，奈米半導體列印可更精細列印圖案，且奈米半導體印刷成本是沉浸式曝光 20%，是頗佳解決方案。但奈米半導體印刷並不能在記憶體生產所有階段取代傳統曝光，兩者並非純粹競爭關係，但至少降低單技術操作成本。

Canon 2023 年 10 月公佈 FPA-1200NZ2C 奈米半導體印刷（NIL）設備，社長御手洗富士夫表示，奈米半導體印刷問世，為小型半導體製造商生產先進晶片開闢新途徑。半導體設備業務經理岩本和德表示，奈米半導體印刷是指將有半導體電路圖的光罩壓印至晶圓，只需一個印記就可在適當位置形成複雜 2D 或 3D 電路圖，只需改進光罩，甚至能生產 2 奈米晶片。

(首圖來源：美光)