本週 2024 年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography and Patterning Conference),比利時微電子研究中心(imec)呈現極紫外光(EUV)製程、光罩和量測進展,都為實現高數值孔徑(high-NA)EUV 微影應用服務。
imec 展示 high-NA EUV 生態系統進展,首批晶圓將完成曝光 |
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作者
Atkinson |
發布日期
2024 年 02 月 26 日 18:10 |
分類
半導體
, 晶圓
, 晶片
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本週 2024 年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography and Patterning Conference),比利時微電子研究中心(imec)呈現極紫外光(EUV)製程、光罩和量測進展,都為實現高數值孔徑(high-NA)EUV 微影應用服務。
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