新標準型 EUV 部分採 High-NA EUV 技術，提高曝光效率逾 20%
作者 | 發布日期 2024 年 03 月 27 日 16:45 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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新標準型 EUV 部分採 High-NA EUV 技術，提高曝光效率逾 20%

荷蘭媒體 Bits & Chips 報導，曝光機大廠 ASML 確認，新標準型 0.33 NA EUV 曝光機 NXE:3800E 導入部分 High-NA EUV 技術，工作效率提升。

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