曝光機三強競爭，NIKON 將推新沉浸式曝光機搶市
作者 | 發布日期 2023 年 12 月 09 日 9:15 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 零組件 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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曝光機三強競爭，NIKON 將推新沉浸式曝光機搶市

日本科技大廠 NIKON 消息，2024 年 1 月將發表 ArF 沉浸式曝光機 NSR-S636E，為半導體生產過程關鍵層曝光系統，生產效率更高，並具高水準套印精準度和生產速度。

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