Tag Archives: EUV 設備

ASML EUV 壟斷難破解？中國半導體設備廠進擊與困局
作者 |發布日期 2026 年 01 月 19 日 11:00 |
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分類 中國觀察 , 半導體

ASML 從 1990 年代中期開始，廣泛地與晶片製造商、工具製造商和材料製造商合作發表論文，並在當時引入整合模組化語言（Unified Modeling language，UML）的軟體架構，在高度抽象與複雜度的研發環境，讓內外部科學家與工程師有共同藍圖與溝通工具，憑藉內外部研發與整合能力，迅速增強競爭實力。 繼續閱讀..

俄國計劃自研 EUV 設備，比 ASML 系統更便宜、容易製造
作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 17:54 |
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分類 半導體 , 材料、設備

綜合外媒 CNews、Tom′s Hardware 報導，俄羅斯已公布自主開發曝光機的路線圖，目標是打造比 ASML 系統更經濟且更複雜的設備。這些曝光機將採用波長為 11.2 奈米的雷射光源，而非 ASML 使用的標準 13.5 奈米波長。因此，新技術無法與現有 EUV 基礎設施相容，需要俄羅斯自行開發配套的曝光生態系統，可能需要數年甚至十年以上時間。 繼續閱讀..

Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機，拚 2027 年量產
作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 |
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分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線（EUV）曝光設備的公司，目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義（Atsuyoshi Koike）18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示，將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..

ASML 接單遜、下修明年展望，台供應鏈緊繃
作者 |發布日期 2024 年 10 月 16 日 11:30 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

ASML（艾司摩爾） 因技術性錯誤提前一天公布財報，不僅新接單慘淡，更下修 2025 年營收展望，為市場投下震撼彈，外界不免憂心台供應鏈恐難逃其害。不過，相關業者多指出，目前手上仍有積壓訂單待消化，2024 年營運有機會優於 2023 年，後續將持續發展新品、拓展新客戶，增添多元業績來源，同時也會謹慎以對，力求營運穩健表現。 繼續閱讀..

Rapidus 2 奈米廠傳 2024 年底導入EUV，派員至 ASML 學習技術
作者 |發布日期 2023 年 12 月 06 日 11:00 |
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分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

目標將次世代半導體（晶片）國產化，由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 正在北海道打造 2 奈米（nm）晶片工廠，目標 2027 年量產，而據悉 Rapidus 決定在 2024 年底導入「EUV」（極紫外光）微影設備，且將派員至荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASMLHolding）學習 EUV 技術。 繼續閱讀..

中國 7 奈米以下晶片有救？華為秀 EUV 曝光技術，外媒不看好
作者 |發布日期 2022 年 12 月 27 日 14:09 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

為了降低美國晶片限令影響，華為 11 月秀出新極紫外光（EUV）曝光新技術專利，暗示生產 7 奈米以下晶片的可能性。不過外媒 Tom′s Hardware 認為，申請專利不代表能製造 EUV 設備，背後有許多廠商、最先進零組件合作，目前只有艾司摩爾（ASML）成功。 繼續閱讀..

ASML 擴大投資，供應鏈營運有底氣
作者 |發布日期 2022 年 11 月 17 日 14:15 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）近來頻傳好消息，不僅在近次投資人會議中上修 2025 年展望，並同步宣布極紫外光（EUV）曝光機大擴產計畫，更計劃在南韓與台灣擴大投資，成為當前半導體景氣飄搖之下，少數逆勢加大投資的公司。法人認為，ASML 的積極布局態度，有望為台系供應鏈挹注中長期動能。 繼續閱讀..

晶圓擴廠還不夠，英特爾超車台積電「關鍵在 ASML」
作者 |發布日期 2021 年 09 月 09 日 9:24 |
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分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

處理器龍頭英特爾 8 日宣布，計劃 10 年內在歐洲新建造至少兩家晶圓廠，投資金額高達 800 億歐元，同時更新愛爾蘭晶圓廠，當成專門生產車用晶片的據點。《華爾街日報》指出，英特爾救星的確在歐洲，但並非晶圓廠，而是需從艾司摩爾（ASML）獲得尖端工具，縮小與台積電的差距。 繼續閱讀..

台積電成長曲線就看這家！關鍵元件缺料 ASML 預告：產能要到「這時候」才能滿載
作者 |發布日期 2021 年 01 月 31 日 10:00 |
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分類 晶圓 , 材料、設備

艾司摩爾（ASML）在日前的 2020 年第 4 季與全年財務電話會議，會議中揭露了，艾司摩爾 2020 年全年營收達到 140 億歐元，其中有 45 億歐元的收入來自 EUV（極紫外光微影）設備的銷售，而 DUV（深紫外光微影）設備則是創下 73 億歐元的紀錄。總裁暨執行長 Peter Wennink 表示，2021 年的 EUV 設備供應仍將因關鍵元件備貨不足而持續吃緊。 繼續閱讀..