ASML 第二台 High-NA 設備，即將導入英特爾奧勒岡廠
作者 | 發布日期 2024 年 08 月 06 日 10:11 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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ASML 第二台 High-NA 設備，即將導入英特爾奧勒岡廠

英特爾正接收 ASML 第二台耗資 3.5 億歐元（約 3.83 億美元）的新 High NA EUV 設備。根據英特爾 8/1 財報電話會議紀錄，執行長 Pat Gelsinger 表示，英特爾 12 月開始接收第一台大型設備，安裝時間需要數月，預計可帶來新一代更強大的電腦晶片。

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