台積電：A16 製程不一定要用艾司摩爾 High NA EUV
作者 | 發布日期 2024 年 05 月 15 日 9:01 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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台積電：A16 製程不一定要用艾司摩爾 High NA EUV

台積電業務開發資深副總經理張曉強 14 日表示，台積電 A16 製程節點不一定要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。

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