英特爾搶用新 EUV,專家:成本高虧損恐擴大 作者 中央社 | 發布日期 2024 年 05 月 19 日 15:11 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit Loading... Now Translating... 英特爾(Intel)搶先導入艾司摩爾(ASML)的高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備,為外界視為是英特爾重返技術領導地位的關鍵作為。產業專家表示,High-NA EUV 成本居高不下,英特爾搶用 High-NA EUV 恐面臨虧損擴大窘境。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: High-NA EUV , 半導體設備 , 艾司摩爾 , 英特爾